Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
New low-stress PECVD Poly-SiGe Layers for MEMS
RISE., Swedish ICT, Acreo.
Vise andre og tillknytning
2003 (engelsk)Inngår i: Journal of microelectromechanical systems, ISSN 1057-7157, E-ISSN 1941-0158, Vol. 12, nr 6, s. 816-825Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert) Published
sted, utgiver, år, opplag, sider
2003. Vol. 12, nr 6, s. 816-825
HSV kategori
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:ri:diva-31984OAI: oai:DiVA.org:ri-31984DiVA, id: diva2:1151842
Tilgjengelig fra: 2017-10-24 Laget: 2017-10-24 Sist oppdatert: 2018-01-13bibliografisk kontrollert

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Av organisasjonen
I samme tidsskrift
Journal of microelectromechanical systems

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 7 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
v. 2.35.9